Ta2O5薄膜相关论文
以Ta2O5为初始膜料, 采用电子束蒸发制备了Ta2O5薄膜, 以空气和氩气分别作退火保护气氛, 以X射线粉末衍射仪(XRD)为测试手段研究了......
Ta2O5 and Nb2O5 films are deposited on BK7 glass substrates using an electron beam evaporation method and are annealed a......
Tantalum pentoxide thin films are prepared by oblique angle electron beam evaporation. The influence of flux angle on th......
Ta2O5 films are prepared on BK7 substrates with conventional electron beam evaporation deposition. The effects of SiO2 p......
主要研究了离子束溅射制备的氧化钽薄膜在大气氛围下热处理对其光学特性的影响规律。实验中热处理温度范围的选择为150~550℃，间隔......
Ta205薄膜作为一种高折射率薄膜,在可见和近红外波段均具有较高透过率,因其出色的物理特性备受光学和微电子领域的关注。阴极电弧......
在室温条件下利用溅射Ta2O5靶材的方法制备了Ta2O5薄膜,并采用将薄膜两侧的反射率光谱进行比较的简便方法分析评估薄膜的光吸收,发......
以乙醇钽[Ta(OC2H5)5]和水蒸气为前驱体,采用原子层沉积(ALD)方法分别在基板温度为250℃和300℃的K9和石英衬底上制备了Ta2O5光学......
本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,......
研究了一种基于波分复用原理的准分布式光纤表面等离子体波传感器。应用光波导理论和多层膜反射理论分析了表面等离子体波效应在同......
用射频磁控溅射法制备了Ta2O5高介电薄膜,并对其进行了退火处理。用C-V,(G/ω)-V和I-V方法研究了Al/Ta2O5/p-Si结构的电学特性,观......
采用电化学方法制备了钽电解电容器阳极.通过场发射扫描电镜和理论分析对钽阳极断面的曲面结构特征及其形成机理进行了研究.研究结......
信息技术的发展提出了采用高k栅介质材料替代SiO2的需要,高介电Ta2O5薄膜的研究具有很强的应用背景,但是在实际应用中，漏电流较大成......
用磁控溅射法制备了Ｔａ２Ｏ５薄膜，再用Ｃ－Ｖ法和ＪＦＥＴ外接薄膜电极法研究其稳定性和离子响应灵敏度。实验发现，在纯氧中沉积的厚２００ｎｍＴ２Ｏ５薄膜有较高的离子响应灵......
介绍了阳极Ta2O5薄膜的电化学形成机理,并重点分析了电化学形成的Ta2O5薄膜漏电流机理的研究进展。描述了影响电化学Ta2O5薄膜生长......
采用紫外光诱导热丝CVD沉积技术制备Ta2O5薄膜和Al/Ta2O5/Si MOS电容。利用XRD,AFM测试分析方法研究了紫外光源功率对Ta2O5薄膜结......
期刊
利用磁控溅射法在硅（Si）衬底上沉积了Ta2O5薄膜，对薄膜进行了不同温度的退火处理，并利用X射线衍射仪对薄膜的微观结构进行了分析。然后......
介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术，根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均......
利用直流磁控溅射Ta膜和阳极氧化法制备Ta2O5薄膜,能谱分析（EDS）和X射线衍射仪（XRD）研究表明,在H3PO4电解液中添加少量的乙二醇制备的T......
用rf和反应磁控溅射法成功制备了一种总厚度为530～730nm的SrTiO3／Ta2O5复合介电层，获得在500Hz下介电常数为48～73，反映介电损耗的参数△......
使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将Ta2O5薄膜置入100℃到500℃的环境中退火.通过XRD、透过率光谱、面吸收测试......
本文采用厚光刻胶作为阳极氧化掩膜对磁控溅射Ta薄膜进行阳极氧化,阳极氧化电压可达到200VDC,增加了介质层的厚度从而提高薄膜电容......
随着科技的进步,纳米材料逐步进入人们的视野,为了提高产品的性能,人们对影响性能的因素-材料的结构,进行了深入研究。氧化钽,作为......
主要研究了离子束溅射制备的氧化钽薄膜在大气氛围下热处理对其光学特性的影响规律。实验中热处理温度范围的选择为150550℃,间隔......
利用反应溅射的方法沉积Ta2O5高介电薄膜,研究了溅射过程中氧气与氩气的体积流量比Ψ（O2：Ar）对薄膜电学性能的影响。结果表明,制备的......
利用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5薄膜,在100～600℃的大气氛围中对其进行热处理（步进温度为100℃）,并对热处理后样品的光学常数（折射......
高精密光学系统对光学薄膜的光学和力学等性能的要求日益提高。光学元件在满足高的光谱特性、超低吸收率和散射损耗的同时,还要求......
采用离子束溅射（IBS）方法制备了 HfO2和 Ta2 O5两种金属氧化物薄膜，通过测量薄膜的椭偏参数，使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的......
Ta2O5薄膜是可见光到近红外波段中重要的高折射率薄膜材料之一.本文针对离子束溅射制备Ta2O5薄膜的光学带隙特性开展了实验研究工......
光学薄膜作为纳米材料的一种,受到广大研究和应用者的关注,已经广泛应用于显示器、太阳能电池、光通讯以及激光器件等诸多领域。Ta......
采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流......
随着超大规模集成电路（VLSI）的发展，晶体管尺寸越来越小，传统的栅介质SiO2不能满足下一代器件栅介质的需求，研发高k介质代替SiO2栅介质......
随着超大规模集成电路(Very Large Scale Integrated Circuits)的高速发展,晶体管尺寸越来越小,M-I-M电容密度的要求也越来越高,传......
光学薄膜作为纳米材料的一种,受到广大研究和应用者的关注,已经广泛应用于显示器、太阳能电池、光通讯以及激光器件等诸多领域。Ta......
