投影光刻相关论文
现有主流光刻技术与设备变得越来越复杂的原因之一在于其仍然囿于线性光学光刻范畴，未能突破光学衍射极限，是衍射极限附近的光刻技术......
投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点，提出了一种混合分区......
叙述具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构和均匀照明光学系统原理。为了满足ｉ线光刻所需的光学传递函数要求，讨论了光刻分辨率......
设计了大面积循环扫描投影光刻的高精度对准系统,由CCD传感器、图像识别软件和共焦显微镜组成的光学测量系统和对掩模和基片的相对......
随着半导体集成电路的发展和“摩尔定律”对芯片关键尺寸的预测和推进,光刻人不得不提出并使用更加精确的模型和引入更好的优化算......
电子束散射角限制投影光刻(SCALPEL—Scattering with Angular Limitation Electron Projection Lithography)技术是下一代光刻技......
本文作者对电子束散射角限制投影光刻(SCALPEL—Scattering with Angular Limitation Electron Projection Lithography)技术中的......
深紫外ＫｒＦ准分子激光光刻技术对于提高光刻分辨率，发展光启程技术极限，具有重要的意义。微细加工光学技术国家重点实验室研制了一套ＫｒＦ准分......
光学投影光刻的分辨力早在21世纪初就已经超越衍射极限分辨力，与摩尔定律的预测基本一致。将浸没式光刻和双重曝光技术相结合，目前光......
软 X射线投影光刻作为特征线宽小于 0 .1μm的集成电路制造技术 ,倍受日美两个集成电路制造设备生产大国重视。随着用于软 X射线投......
<正> 1 第一代系统设计的目标和限制各种类型的光学设计系统中具有很大像场的系统对用于第一代投影光刻是很有用的。为了获得未来......
2008年9月26～30日，我参加Obducat AB组织的纳米压印光刻学术研讨会。纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography，NIL）是一种全新的纳米图形......
投影光刻技术的计算机模拟分为三部分，空间像强度分布计算，曝光计算和显影计算，本文分别讨论了各部分数学模型的建立，计算方法及特点，并......
软Ｘ射线投影光刻能够制作出特征线宽小于０．１μｍ的线条。激光等离子体源的研究是软Ｘ射线投影光刻中几项关键技术之一。本文报道了１３ｎｍ投影光刻......
在投影光刻中矢量衍射理论适用于研究照明光的偏振态对空间成像的影响.主要研究了在离轴照明方式下照明光的偏振态对线条图形的影......
<正> 1 前言先进微电子器件加工中,投影光刻不断地获得越来越小的极限尺寸。为了克服光衍射的限制,已经设计出具有较大数值孔径和......
介绍了一套自行研制的用于光瞳滤波实验的投影光刻实验系统，其物镜光瞳处预留出放滤波器的位置，可方便取放滤波器。在理论分析的基础......
基于部分相干成像理论，考虑了投影曝光系统成像的非线性滤波特点，分析了投影光刻中的光学邻近效应（ＯＰＥ）产生的机理，模拟了掩模上线条的线宽......
聚焦对投影光刻系统的影响是了解及控制光刻工艺的关键因素。随着特征尺寸的减小，它对聚焦误差的灵敏度迅速升高，因此，许多人认为聚焦......
叙述亚微米投影光刻物镜光学设计要点：光刻分辨力Ｒ与波长λ、数值孔径ＮＡ的关系；光学系统双远心的构成方法；光刻物镜的象差校正优化设计中......
掩模制作是电子束散射角限制投影光刻(SCALPEL)的关键技术.通过优化工艺,制作出具有'纳米硅镶嵌结构'的低应力SiNx薄膜作......
针对投影光刻成像系统在数值孔径足够大时所产生的分辨力和焦深的矛盾，详细研究了光瞳滤波对投影成像对比度的改善情况，根据不同掩模......
依据物的空间频谱分布，部分相干成象理论及空间滤波概念，分析了投影光刻中的掩模特征尺寸与光学邻近效应的关系，并通过成象系统的数值......
本文从菲涅尔衍射模型出发,在部分相干条件下对集成电路制造工艺所常用的光刻法的原理性限制作了研究。对于接触法光刻技术,本文给......
在光学系统偏振传输理论的基础上,对一高数值孔径(NA)的透射式光刻系统进行了偏振分析,分析中考虑了系统的实际特性——现有工艺水......
本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一......
掩模投影成像干涉光刻技术以在很小或几乎不增加光刻系统成本的基础上来提高光刻分辨率为目的，充分利用系统的有限孔径，将掩模图形不......
为研究大面积激光投影光刻的调焦,利用Zemax光学设计软件模拟离焦对光程差(OPD)和调制传递函数(MTF)的影响,分析二者对投影曝光图......
期刊
<正>为了提高反射率,软X射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜,由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同......
软X射线投影光刻的研究近年来取得了突破性进展,所采用的新型光学系统由无污染激光等离子光源及高分辨率大视场投影光刻系统组成.......
深紫外光刻机作为极大规模集成电路的主流加工设备,亟待实现国内自主研制。作为光刻机的核心部分,投影光刻物镜的分辨率已经超过瑞......
高NA光学系统一般指的是高NA投影光刻物镜。高NA投影光刻物镜是光刻机的核心组成部分,其成像质量的好坏决定着最终的光刻性能。偏......
<正> TH703 2002053976大口径精密投影光刻制版镜头的光学装校=Optical assemblyand rectification of big aperture’s precision......
离轴照明是现代投影光刻中的一种重要的分辨率增强技术。针对不同的照明模式要求,提出了一种利用自由曲面来实现离轴照明的方法。......
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光......
本文基于准分子激光曝光系统的特点，对准分子激光束的整形，光束能量分布“均化”，曝光剂量控制，光学材料选取等关键问题，提出了解决的方......
