光学临近校正相关论文
提出一种面向光刻掩模优化框架基于半隐式离散化的数值技术方法,对框架中稳定时间相关模型中的扩散项、非扩散项分别进行隐式、显......
讨论提出用连续的光源描述函数代替0～1分布的光源函数精确描述光源光强分布，以提高光刻分辨率．在SPIAT的基础上应用新的光源特征函数，......
随着集成电路和半导体技术的发展,光刻图形的关键尺寸达到所采用照明光源波长以下。因此光刻成像系统会产生光学临近效应,从而导致......
随着光刻关键尺寸的下降，由于光学衍射效应造成的光学临近效应对光刻图形造成的畸变会导致光刻的输出图形与目标图形有一定差距，甚至......
