窄间隙(0.1 mm)介质阻挡放电等离子体源输出高浓度(316 mg/L)、高压强(0.15MPa～0.25 MPa)氧活性粒子，再将其直接喷射到输液管道中，它......

硅片清洗技术已成为制备高技术电子产品的关键技术.采用窄间隙介质阻挡放电方法研制了低温氧等离子体源,把氧离解、电离、离解电离......