半导体硅技术发展的新方向──SiGe／Si异质结器件

来源 :电子科技导报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhlinen

【摘要】

：

简述了ＳｉＧｅ／Ｓｉ异质结器件的基本原理，锗硅合金的基本性质，及发展现状。 The basic principle of SiGe / Si heterojunction device, the basic properties of SiGe alloy and its dev

【作者】

：

邹德恕陈建新

【机构】

：

北京工业大学

【出处】

：

电子科技导报

【发表日期】

：

1995年11期

【关键词】

：

SiGe 锗硅合金应变层能带工程半导体硅基区同质结晶格失配晶体材料电流增益

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简述了ＳｉＧｅ／Ｓｉ异质结器件的基本原理，锗硅合金的基本性质，及发展现状。 The basic principle of SiGe / Si heterojunction device, the basic properties of SiGe alloy and its development status are briefly introduced.

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