辉光放电光谱仪技术进展

来源 :中国金属学会第十三届分析测试学术年会——冶金及材料分析测试学术报告会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:luckkycaroll
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随着技术的发展与进步,辉光放电发射光谱仪(GD-OES)的功能也在不断的丰富和扩展,其性能日臻完善,是材料(导体或非导体)表面和逐层分析的理想方法,可以研究材料表面至几百微米深的组成分布,典型的深度分辨率是2-10 nm.这种技术在各种材料工业上的分析应用对材料的质量控制、改进材料的性能有着重要的作用.应用领域包括半导体工业、汽车工业、钢铁工业、玻璃、陶瓷材料和建筑材料工业等。本文介绍 辉光放电光谱仪技术进展。
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研究了应用辉光放电光谱法(GD-OES)测定中低合金钢中9种元素的分析方法.选择了最佳分析参数如放电电流、放电电压等以及各元素最佳分析谱线.实践证明,该方法具有良好的精密度和准确度.
综述了辉光放电发射光谱分析中校准的概念和原理,详细论述了建立校准工作曲线的方法和需注意的问题,工作曲线再校准的原理和优缺点,最小校准的原理和优缺点等.
本文研究了X-射线荧光法测定镀锌板锌层量的分析方法,分析范围为单面锌层质量35~180g/m2.试验选择了仪器的测定条件和参数,并对方法的精密度和准确度进行了考查.精密度试验的相对标准偏差为0.075%,准确度大于等于95%.该方法准确、快速、简便,结果令人满意.
论述了用X射线荧光光谱法来测定镀锌板镀层质量的方法.介绍了镀层重量测定的原理,不同结构镀层的测定条件、标准样板的制作方法、测定误差的来源以及精度的控制方法.
本文研究了用辉光放电质谱法(GDMS)同时测定不锈钢中的多元素.对辉光放电参数如电流、电压、预溅射时间进行了优化.通过对分析元素质谱干扰情况的考察,选择合适的同位素用于分析,同时建立校正公式对被干扰的Ti,Mo同位素进行校正.直接测定了不锈钢块状样品中的15种元素,该方法具有很好的准确度和精密度.
研究了加钇挤压变形对2A70铝合金组织性能的影响,确定该工艺下适宜的时效制度为:人工时效温度170℃,保温10-12 h.采用金相显微镜、扫描电子显微镜(SEM)观察组织形貌,并在力学性能试验机上测试样品的强度和塑性.结果表明,加钇后形成的稀土化合物固态质点为结晶提供了异质晶核,另外,稀土化合物在结晶界面上偏聚,阻碍晶胞的长大,细化了2A70铝合金的晶粒;挤压铸造后挤压变形可以细化铸件显微组织,消
将X射线衍射定量分析方法和X射线应力分析结合起来测量了双相钢中的微观应力,并根据测得的微观应力对X射线测得的宏观残余应力进行了调整,与机械法测得的宏观残余应力进行了比较,表明将二种X射线测量方法结合起来可以更准确的了解材料中存在的各类内应力.
本文针对欧盟RoHS指令限制使用六价铬等有害物质的规定和用户对钢板涂镀层中六价铬检测的需求,对目前国内外普遍采用的EPA 3060和ISO 3613等标准在钢板涂镀层中六价铬检测的适用性进行了阐述,分析了钢板涂镀层中六价铬检测存在的问题,研究确定了钢铁涂镀产品各涂镀层溶解剥离和定量的方法,实现了涂镀层中六价铬含量的准确测定.
主要介绍了利用不同的表面分析技术测定钢板表面纳米级氧化膜的比较.辉光放电光谱法的分析速度快,分析结果定量、精密度实验表明测定纳米级膜厚的相对标准偏差可达10%,但无法提供薄膜中元素价态和结构的信息.XPS能够对薄膜中的元素价态和结构进行分析;可以利用XPS变角度法和离子溅射法测定钢板表面纳米级膜厚,但变角度法仅适合于10 nm以下的膜厚测定,而离子溅射法会受到样品表面粗糙度的影响.结果表明,不同的
本文研究了氩内标在辉光放电质谱测定中的应用.对氩离子及其形成的双原子、三原子离子的离子强度和干扰情况等进行比较后,选择氩的双原子离子(78Ar2+)为内标.考察了辉光放电电流和放电电压对氩内标质谱行为的影响.氩内标离子强度与基体内标离子强度的关系表明,氩内标与基体内标对样品分析有相同的校正作用.实验表明,采用氩内标可以有效地减小分析样品间不同、放电条件波动对分析结果造成的影响;并与采用基体内标的分